Kann verwendet werden, um Metallhalogenide, metallische organische Verbindungen,Kohlenwasserstoffe und andere Reaktionsquellen unter spezifischem Druck zur Erzeugung fester Sedimente an der Oberfläche des ZielmaterialsEs wird auch zur chemischen Dampfdeposition von Verbundwerkstoffen mit Kohlenwasserstoffgas (z. B. C3H8 usw.) als Kohlenstoffquelle verwendet, z. B. C/C-Verbundwerkstoffe, SiC-Verbundwerkstoffe
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