Chemische Dampfdeposition für metallische organische Verbindungen SiC-Verbundmaterialien

Dampfdeponierungsöfen können zum Erhitzen und Verdampfen von Metallhalogeniden, metallischen organischen Verbindungen,Kohlenwasserstoffe und andere Reaktionsquellen unter spezifischem Druck zur Erzeugung fester Sedimente an der Oberfläche des ZielmaterialsEs wird auch für die chemische Dampfdeposition von Verbundwerkstoffen mit Kohlenwasserstoffgas (z. B. C3H8 usw.) als Kohlenstoffquelle verwendet, z. B. C/C-Verbundwerkstoffe, SiC-Verbundwerkstoffe, CVD,CVI-Verarbeitung.

Eigenschaften:

1) Bei mittlerer oder hoher Temperatur entsteht durch die chemische Reaktion in der Gasphase zwischen den Anfangsverbindungen festes Material, das auf der Matrix abgelagert wird.

2) Es kann unter atmosphärischem Druck oder unter Vakuum abgeschieden werden (Negativdruck-Abscheidung, normalerweise ist die Vakuumabscheidungsfilmqualität besser).

3) Der Einsatz von Plasma- und Lasertechnik kann die chemische Reaktion wesentlich fördern, so daß die Ablagerung bei niedrigerer Temperatur durchgeführt werden kann.

4) Die chemische Zusammensetzung der Beschichtung kann sich mit der Veränderung der Zusammensetzung der Gasphase ändern, so daß ein Gradientsediment oder eine gemischte Beschichtung entsteht.

5) Kann die Beschichtungsdichte und die Beschichtungsreinheit steuern.

6) um die beschichteten Teile herum. Es kann auf komplexe Formmatrix und granulare Material beschichtet werden. Geeignet für die Beschichtung aller Arten von komplexen Formen des Werkstücks.Es kann mit Rillen beschichtet werden, Rillen, Löcher und sogar Blindlöcher des Werkstücks.

7) Die abgelagene Schicht hat in der Regel eine kolumnenförmige Kristallstruktur und ist nicht biegungsbeständig.aber seine Struktur kann durch Gasphasen-Perturbation der chemischen Reaktion durch verschiedene Techniken verbessert werden.

8) kann durch verschiedene Reaktionen eine Vielzahl von Metall-, Legierungs-, Keramik- und Verbundbeschichtungen bilden.