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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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Ausrüstung für die Ablagerung von Halbleitermaterial mit CVD-Ofen

Einzelheiten zum Produkt

Markenname: Jingtan

Zertifizierung: CE

Zahlungs- und Versandbedingungen

Min Bestellmenge: 1 Satz

Preis: USD12,000-100,000/SET

Verpackung Informationen: Holzkofferverpackung

Lieferzeit: 60 Tage

Zahlungsbedingungen: L/C/T/t

Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 30-teilig/Stücke pro Viertel

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Spezifikationen
Hervorheben:

Absetzgeräte für Halbleitermaterialien

,

CVD-Ofen für Halbleitermaterialien

Herkunftsort:
Hunan, China
Typ:
Induktionsofen
Gebrauch:
Absetzöfen
Video-Ausgangsinspektion:
Bereitgestellt
Maschinenprüfbericht:
Bereitgestellt
Kernkomponenten:
PLC
brand name:
Jingtan
Spannung:
380
Gewicht (T):
2 T
Leistung (kW):
220
Wichtige Verkaufspunkte:
Wettbewerbsfähiger Preis
Konstruktionstemperatur (°C):
1250 bis 2200
Besorgniserregende Temperatur:
900 bis 1200°C
Druckanstieg (Pa/h):
0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Aufheizungsmethode:
Widerstand/Induktion
Arbeitsatmosphäre:
Vakuum/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Ofenart:
Quadratisch/rund vertikal/horizontal
Kühlmodus des Ofen:
Wasserkühlung in der Ofenhülle
Infrarotgerät:
Ein-/Doppelfarbmessung
Temperaturgleichheit:
± 5
Grenzvakuum Grad ((Pa):
1-100
Art der Vermarktung:
Gewöhnliche Ware
Gewährleistung für Kernkomponenten:
1 Jahr
Anwendbare Branchen:
andere, Halbleiter
Herkunftsort:
Hunan, China
Typ:
Induktionsofen
Gebrauch:
Absetzöfen
Video-Ausgangsinspektion:
Bereitgestellt
Maschinenprüfbericht:
Bereitgestellt
Kernkomponenten:
PLC
brand name:
Jingtan
Spannung:
380
Gewicht (T):
2 T
Leistung (kW):
220
Wichtige Verkaufspunkte:
Wettbewerbsfähiger Preis
Konstruktionstemperatur (°C):
1250 bis 2200
Besorgniserregende Temperatur:
900 bis 1200°C
Druckanstieg (Pa/h):
0.67Pa/h ((150Pa/24h)
Aufheizungsmethode:
Widerstand/Induktion
Arbeitsatmosphäre:
Vakuum/CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Ofenart:
Quadratisch/rund vertikal/horizontal
Kühlmodus des Ofen:
Wasserkühlung in der Ofenhülle
Infrarotgerät:
Ein-/Doppelfarbmessung
Temperaturgleichheit:
± 5
Grenzvakuum Grad ((Pa):
1-100
Art der Vermarktung:
Gewöhnliche Ware
Gewährleistung für Kernkomponenten:
1 Jahr
Anwendbare Branchen:
andere, Halbleiter
Beschreibung
Ausrüstung für die Ablagerung von Halbleitermaterial mit CVD-Ofen
Spezifikation:
Vakuum-Ablagerungsöfen:
Hauptsächlich für die Herstellung von Kohlenstoff-Kohlenstoff-Verbundwerkstoffen verwendet, und der Ablagerungsöfen wird hauptsächlich für die Herstellung einer pyrolytischen Kohlenstoffbeschichtung auf der Graphitoberfläche verwendet,Halbleitergeräte und hitzebeständige Spülmaterialien.
Parameter/Modellnummer
JT-0305-C
JT-0505-C
JT-0608-C
JT-0608-C
JT-0812-C
JT-1120-C
JT-1218-C
JT-1520-C
Größe der Arbeitszone
φ×H(mm)
300 × 500
500 × 500
600 × 800
600 × 1200
800 × 1200
1100 × 2000
1200 × 1800
1500 × 2000
Höchste Temperatur
(°C)
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
2300
Temperaturgleichheit ((°C)
± 5
± 5
± 5/± 7.5
Der Wert der Verbrennungsmenge ist zu messen.
Der Wert der Verbrennungsmenge ist zu messen.
Der Wert der Verbrennungsmenge ist zu messen.
Der Wert der Verbrennungsmenge ist zu messen.
±15 ±20
Grenzvakuumgrad ((Pa)
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
1 bis 100
Grenzvakuumgrad ((Pa)
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
0.67
Aufheizungsmethode
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Widerstand/Induktion
Ausrüstung für die Ablagerung von Halbleitermaterial mit CVD-Ofen 0
Konstruktionstemperatur
1250°C/1650°C/1800°C/2200°C
Durchschnittliche Temperatur
900 bis 1200°C
Vakuumgrad
< 50 Pa
Druckanstieg
6.67pA/h (oder 150Pa/24h) im kalten Zustand des leeren Ofen
Aufwärmmodus
Graphitwiderstandsheizung oder Induktionsheizung, unabhängige Temperaturregelung, gute Temperaturgleichheit
Atmosphäre
Vakuum /CH4/C3H6/H2/N2/Ar
Ausrüstung für die Ablagerung von Halbleitermaterial mit CVD-Ofen 1
Gassteuerungsmodus
Massendurchflussmesserregelung, mehrkanaler Gasweg, einheitliches Durchflussfeld, kein Ablagerungs-Todwinkel, guter Ablagerungseffekt;Mehrstufiges und effizientes Abgasreinigungssystem, umweltfreundlich,leicht zu reinigen
Ofenart
Quadratische, runde, vertikale oder horizontale Struktur (nicht standardmäßige Konstruktion), vollständig geschlossene Ablagerungskammer, gute Dichtungseffekt,
starke Verschmutzungsbekämpfungsfähigkeit;
Kühlmodus des Ofen
Wasserkühlung aus der Ofenhülle, kann ein externes Umlaufschnellkühlsystem ausgewählt werden, kurze Kühlzeit, hohe Produktion
Effizienz;
Ausrüstung für die Ablagerung von Halbleitermaterial mit CVD-Ofen 2
Strukturform
Horizontale - seitliche Entladung, vertikale - aufwärts/unterwärts
Verriegelungsmodus
manuell/automatisch
Schalenmaterial
Innere Edelstahl/ganz Edelstahl
Isoliermaterial
Kohlenstofffilz/Graphitfilz/Kohlenstofffasergehärtetes Filz
Infrarotgerät
Einfach-/Doppel-Farbmessung
Stromversorgung
KGPS/IGBT ((nur für mittlere Frequenzheizung geeignet)
Produktparameter:
 
 
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