Anpassungsfähiger Sinterofen für Silikonoxid bei 1500°C
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1600℃ MIM Entbindungs- und Sinterofen für Metallteile
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1600° MIM-Abspaltung Sinterofen für hochpräzise Metallteile
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3200°C Ultra-Hochtemperatur-Grafitierungs-Ofen mit PLC/PC-Steuerung und Wasserkühlsystem für den Laborgebrauch
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Kohlenstoffnanoröhrchenreinigungsöfen mit großem Volumen mit einer Hochtemperaturzone von 300*300*500 bis 1500*1500*5200 mm und einer Ladekapazität von 45 bis 11700
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Industrieller Sinterofen mit 200 kW Leistung 380 V Spannung und 60-25°C/min Erwärmungsgeschwindigkeit für die Hochtemperaturverarbeitung
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Si2O Sintering Furnace for Silicon Oxide with 1500°C Working Temperature, ±5°C Uniformity & Customizable Chamber Size
Suitable for mass production of vapor deposition materials such as silicon oxide; High precision temperature difference control, high temperature and high vacuum; With high vacuum sublimation, ...Ansicht mehr
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Si2O Sintering Furnace for Silicon Oxide with 1500°C Working Temperature, ±5°C Uniformity & Customizable Chamber Size