Hochreinigung 3000°C Graphitisationsofen mit kombinierter chemischer und thermischer Behandlung für 99,99% Kohlenstoffmaterialien

Hochreiner Kohlenstoffnanoröhren-Reinigungs-Vakuumgraphitisierungsofen mit kombinierter chemischer und thermischer Behandlung

Der Ofen zur Reinigung von hochreinem Kohlenstoffmaterial kombiniert thermische Graphitisierung bei 3000℃ mit chemischen Behandlungsmethoden. Mit diesem dualen Ansatz werden Reinheitsgrade von 99,99 % erreicht, die für Halbleiter-, Luft- und Raumfahrt- sowie fortschrittliche Elektronikanwendungen erforderlich sind.

Hauptmerkmale

• Kombiniertes Verfahren zur Hochtemperaturgraphitierung und chemischen Reinigung
• 99,99 % Reinheit, bestätigt durch Tests Dritter
• 3000℃ Arbeitstemperatur mit präziser Atmosphärenkontrolle
• Chemikaliendosiersystem mit automatischer Einspritzung und Abgasbehandlung
• Chargenrückverfolgbarkeitssystem mit Reinheitszertifizierung pro Produktionslos

Anwendungen

Von entscheidender Bedeutung für die Herstellung von Kohlenstoffnanoröhren in Halbleiterqualität, Verbundwerkstoffen für die Luft- und Raumfahrt, Komponenten für medizinische Geräte und fortschrittlicher Elektronik, die hochreine Kohlenstoffnanomaterialien erfordern.

Technische Vorteile

• Durch die duale Reinigungsmethode werden Reinheitsgrade erreicht, die durch die thermische Behandlung allein nicht erreichbar sind
• 99,99 % Reinheit, bestätigt durch unabhängige Laboranalyse
• Die automatisierte Chemikaliendosierung gewährleistet eine gleichmäßige Behandlung über alle Chargen hinweg
• Die Reinheitszertifizierung pro Charge bietet eine dokumentierte Qualitätssicherung

Kundendienst

1 Jahr umfassende Garantie mit technischem Fernsupport. Installation und Schulung vor Ort möglich. Ersatzteillieferung innerhalb von 7 Werktagen. Lebenslange technische Beratung inklusive.