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Hunan Jingtan Automation Equipment Co., LTD.
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Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung

Einzelheiten zum Produkt

Herkunftsort: Hunan, China

Markenname: Jingtan

Zahlungs- und Versandbedingungen

Min Bestellmenge: 1

Preis: $56,000

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Spezifikationen
Hervorheben:

375L Ladekapazität Grafitisierungsöfen

,

500x500x1500 Kammergröße Reinigungsöfen

,

±5°C Temperatur-Einheitlichkeit Vakuumsinterner Maschine

Typ:
Induktionsofen
Stromspannung:
380
Gewicht:
5 T
Grenztemperatur:
2400℃
Heizmethode:
Widerstandsgraphitstabheizung
Steuermodell:
Handbuch oder automatisch
Arbeitsatmosphäre:
Vakuum- oder Inertgasschutz
Ladekapazität:
375L
Kammergröße:
500*500*1500
Temperatur Gleichmäßigkeit:
± 5°C
Ofenstruktur:
horizontal
Material des Ofenkörpers:
SS 304
HOHE TEMPERATURZONE:
500*500*1500
Temperaturunterschied:
± 5°C
Kernkomponenten:
PLC, Druckbehälter, Pumpe, Zylinder
Typ:
Induktionsofen
Stromspannung:
380
Gewicht:
5 T
Grenztemperatur:
2400℃
Heizmethode:
Widerstandsgraphitstabheizung
Steuermodell:
Handbuch oder automatisch
Arbeitsatmosphäre:
Vakuum- oder Inertgasschutz
Ladekapazität:
375L
Kammergröße:
500*500*1500
Temperatur Gleichmäßigkeit:
± 5°C
Ofenstruktur:
horizontal
Material des Ofenkörpers:
SS 304
HOHE TEMPERATURZONE:
500*500*1500
Temperaturunterschied:
± 5°C
Kernkomponenten:
PLC, Druckbehälter, Pumpe, Zylinder
Beschreibung
Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung
Halbleiterreinigung mit Kombination chemischer und hochtemperaturtechnischer Methode Vakuumsinterner Heizmaschine
Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 0 Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 1
Kohlenstoffnanoröhrchenreinigungsöfen

Die kombinierte Reinigungsbehandlung der Hochtemperaturmethode und der chemischen Methode. geeignet für neue Energieträger, Halbleiter, neue Materialien und viele andere Bereiche.

Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 2 Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 3

Wärmebehandlung von Batterienanodenmaterialien, Pulvermetallurgie, Nanomaterialien, Graphen, neuen Materialien und Pulvermaterialien in Vakuumatmosphäreund Hochtemperatur-Sinterung und Reinigung in einer inerten Atmosphäre.

Modell TCL-45 TCL-128 TCL-375 TCL-720 TCL-1568 TCL-2560 TCL-5000 TCL-7200 TCL-11700
Hochtemperaturzone (mm) 300*300*500 400*400*800 500*500*1500 600*600*2000 700*700*3200 800*800*4000 1000*1000*5000 1200*1200*5000 1500*1500*5200
Ladekapazität 45 128 375 720 1568 2560 5000 7200 11700
Temperaturunterschied ± 5 ± 10 ±15
Grenztemperatur 2400
Aufwärmmodus Widerstand Graphitstang Heizung
Kontrollmodell manueller oder automatischer Betrieb
Arbeitsatmosphäre im Ofen Vakuum- oder Inertgasschutz (mikropositiver Druck)
Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 4 Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 5
  • Es kann für die Reinigung von Kohlenstoffnanoröhrchen mit hoher Temperatur durch Graphitierung verwendet werden und kann die Reinigungsbehandlung mit hoher Temperaturmethode in Kombination mit chemischer Methode realisieren.
  • Es kann die kontinuierliche Zufuhr und Entladung bei hoher Temperatur realisieren, den Energieverbrauch reduzieren und den Produktionszyklus verkürzen.
  • Verwenden Sie Widerstand oder Induktionsheizung, die Temperatur kann 2400°C erreichen.
  • Die Kombination von Hochtemperaturmethode und chemischer Methode kann den Anforderungen einer hochreinen Behandlung entsprechen.
  • Das effiziente Filtrationssystem kann den Staub und die im Reinigungsprozess erzeugten ätzenden Gase wirksam einfangen.
  • Es kann die kontinuierliche Zufuhr und Entladung bei hoher Temperatur realisieren, den Energieverbrauch reduzieren und den Produktionszyklus verkürzen.
Häufig gestellte Fragen
Sind Sie eine Fabrik oder Handelsgesellschaft?
Ja, wir sind der führende Hersteller von Hochtemperatur-Vakuumöfen in China mit mehr als 14 Jahren Erfahrung, die mit vielen Patentzertifikaten auf dem heimischen Markt vergeben wurde.
Haben Sie Anpassungs- oder OEM-Dienst?
Ja, wir verfügen über ein leistungsfähiges F&E-Team und Hightech-Ausrüstung. Wir können sowohl normale Modelle als auch kundenspezifische Öfen nach Kundenanforderungen liefern.
Was sind deine Vorteile?
  • Schnelle Antwort auf Ihre Anfrage
  • Hohe Qualitätskontrolle
  • Stabile Lieferkette auf dem Inlandsmarkt
  • Pünktliche Lieferung
  • Ausgezeichneter Kundendienst, einschließlich des Einsatzes von Ingenieuren für Installation und Debugging
Kontaktinformationen
Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 6 Graphitisationsofen mit 375L Ladekapazität 500x500x1500 Kammergröße und ±5°C Temperaturuniformität für Halbleiterreinigung 7
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